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AMI-300 Lite 基础系列

全自动程序升温化学吸附仪

PD

TPR

TPO

脉冲化学吸附

脉冲校准

AMI-300 Lite 基础系列全自动程序升温化学吸附仪
AMI-300 Lite 基础系列全自动程序升温化学吸附仪
AMI-300 Lite 基础系列全自动程序升温化学吸附仪

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产品概览 产品特点 软件控制 典型应用 性能参数 服务产品

Outline

产品概览

相较于旗舰版AMI-300系列,AMI-300Lite系列结构更加紧凑,更经济,同时又能提供快速的催化剂表征功能。AMI-300Lite系列专为预算有限和对应用要求比较常规的客户而设计。功能强大的数据处理软件可确保数据准确性, AMI-300Lite是经济高效的代表作。

AMI-300Lite利用成熟的技术来全自动执行以下过程

  • 程序升温脱附(TPD)
  • 程序升温还原/氧化(TPR / O
  • 脉冲校准
  • 脉冲化学吸附
  • 单点BET
  • 配有冷阱系统
  • 催化剂处理
  • 高精度热导池检测器
  • 并可选配其他检测器 ( FID, MS, FTIR, GC )

AMI-300 Lite 结构图

product_ami300_结构图

Feature

产品特点

操作自由、全自动测试

全自动运行实验,电脑自动采集和储存数据。高级用户模式下仪器设置窗口完全开放,实现用户高度自由化操作。

多路进气

配备高精度质量流量控制器(MFC), 5路分析气入口,2路脉冲气体入口。

峰扩散小

1/16英寸316不锈钢管线,保证较小的死体积,有利于提高信号响应速率, 减少峰的扩散。

外温度范围

实验温度可至1000℃,升温速率可达1-30℃/min

测量精确

高精度的4灯丝TCD检测器,高线性度、准确性、灵敏度和稳定性。提供不同灯丝材质选择。

定量环

提供13种不同规格的定量环(Loop)。定量可选择自动或者手动脉冲,以最大限度的满足灵敏性和兼容性

结构材质

提供3种密封件和材料是根据您的需求定制设计的。

样品易于装载

移动式贝壳炉,使样品管易于取出和装载。

多路控温

可自由切换加热炉或样品床层的温度来控制仪器测试时的升温速率,并实时记录加热炉和样品床层的温度用于数据分析。

空冷组件

自动控制,通过空气吹扫快速冷却炉子,以缩短实验时间。

辅助检测器

可以接受任何提供模拟电压输出的辅助检测器,例如火焰离子化检测器(FID)。

安全保护

独立的炉膛过温保护单元,气路安全阀、止回阀、电路保护单元和TCD防干烧系统。

Software

软件控制

AMI-30lite型是由计算机控制的全自动型仪器,数据可靠且易于操作。实验时不必一直有操作员值守。可安装在Windows系统的电脑上,可以联网,除操控仪器外,电脑还可以管理其他实验室任务。
“Overview”界面一目了然地显示设备状态,提供所有阀门的位置、每个端口的气体类型、温度和检测器信号等信息。线条颜色的变化能说明当前的流动路径

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AMI系列强大的软件操控功能

实验程序设置界面

实验程序设置界面

用户可灵活选择或编辑TPD, TPO ,TPR , TPRS, 脉冲化学吸附、 定量环校准实验等,可设置多达99 个程序,实现吸附,脱附和化学反应的全自动化。可以在几分钟内完成完整的实验设置,并可以保存以供将来使用或修改。

仪器安全保护程序设置界面

仪器安全保护程序设置界面

软件具有警报程序,可实现多种安全保护机制设置。在手动模式下,只需在图标上单击鼠标即可切换任何阀门。可以从页面输入气体流量和设定温度值。

自动分峰拟合界面

采集质谱数据界面

可连接质谱(MS)或气体检测器,支持外接多种检测器,提供串联和并联连接方式,可将质谱(MS)数据采集嵌入AMI软件中,实现同一文件导出TCD&MS;数据。

强大的数据分析能力

数据处理软件能完成信号峰的拟合,分峰,积分,微分和叠加处理,从而获取样品的特征信息,包括催化剂的表面特征,表面酸性/碱性位点分布,活化能,反应动力学数据等。

数据分析界面

数据分析界面

吸附量计算

吸附量计算
峰积分界面
峰积分界面
自动分峰拟合界面
自动分峰拟合界面

Application

典型应用

铂催化剂对CO的吸附

研究催化剂的表面活性位及数量、强度 、活性 、稳定性 、选择性和失活对于工业反应过程非常重要。在催化、化学品和石化行业、比如精细化学品、燃料、肥料、尾气排放控制器、电池、燃料电池和储能材料的研制过程中,表面活性 对材料起着至关重要的作用。多相催化剂也广泛应用于催化裂解和重整反应,加氢反应(加氢脱硫,加氢脱氮,加氢脱氧,加氢脱金属),选择性氧化和还原反应,汽车尾气污染治理、烃的异构化、费托工艺、水煤气变换以及其他许多重要的工业反应。

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氨,作为探针分子,可以用来确定催化剂中酸位的类型和多少。左图是采用AMI-300IR测试,氨在硅铝材料上吸附的红外谱图。在1760、1480和1380 cm-1三处存在宽的由于吸附氨形成的峰。1480 cm-1处的谱带可归因于吸附在Brønsted位点上的氨,其他归因于吸附于Lewis位点上的氨(参见,M. Niwa et al., J. Phys. Chem. B, 110 (2006) p. 264

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64% Ni/SiO2做催化剂进行程序升温脱附氢的反卷积图,不同的峰对应不同的吸附质

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IR型测试三种不同温度下的硅铝材料对氨吸附的红外光谱图

Specification

性能参数

型号AMI-300 Lite 基础系列
典型样品0.1-1g
温度范围25至1000°C
升温速率1-30℃/min
工作压力常压
气体输入>5路分析气体,2路脉冲气体
气体流速5-50ml/min
反应器类型石英U形管
TCD检测器可选择灯丝类型(钨,金/钨)
管路材质不锈钢(密封可选Buna-N,Viton或Kalrez)
尺寸宽:61cm / 高:64cm / 深:61cm
重量45公斤

Services

服务产品